原子层沉积系统ALD

1、仪器型号：Beneq TFS 200

2、制造厂商：芬兰Beneq

3、功能说明：

针对多孔、高深宽比的衬底结构可实现表面沉积高均匀性、保型性、低缺陷的Al2O3、TiO2、AlN薄膜。

4、性能指标：

沉积均匀性：小于±1%（200mm晶圆）；

热源温度：室温至200℃；

样品尺寸：200mm及以下；

基底温度：25℃~500℃可调；

沉积所用源：TMA、NH3、TiCl4等；

工艺气体：N2、NH3。

5、样品要求：

晶圆尺寸：200mm及以下

6、收费标准：

校内：350元/小时；校外350元/小时