等离子体增强化学气相淀积系统
1、仪器型号：SI500D
2、制造厂商：SENTECH公司
3、功能说明：
可沉积SiO2、Si3N4、SiC、Poly-Si等介质薄膜。
4、性能指标：
沉积厚度：2 μm以下可一次完成；
气体：CF4、O2、Ar、SiH4、NH3；
功率：最高1200W；
最高温度：310℃。
5、样品要求：
晶圆尺寸：4 inch（直径）
6、收费标准：
校内：350元/30分钟；校外：350元/30分钟
备注：30分钟为基本时间单元
