磁控溅射镀膜设备

1、仪器型号：EXPLORED

2、制造厂商：美国丹顿真空设备有限公司

3、功能说明：

用于沉积Ti、Cr、Au、Pt等金属薄膜。

4、性能指标：

直流电源功率：0-600W；

均匀性和重复性：在6 inch衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%；

基底温度：0℃-800℃可调；

真空室漏率：5E-5Torr.L/s ；

极限真空：5E-7Torr。

5、样品要求：

晶圆尺寸：1片6 inch，向下兼容

6、收费标准：

校内：270元/小时+材料费：80元/100nm Ag; 500元/100nm Au；800元/100nm Pt；30元/100nm(Al、Cu、Ni、Cr、Ti)；换靶每次加收300元；

校外：270元/小时+材料费：80元/100nm Ag; 500元/100nm Au；800元/100nm Pt；30元/100nm(Al、Cu、Ni、Cr、Ti)；换靶每次加收300元

备注：30分钟为基本时间单元