感应耦合等离子体刻蚀系统，NMC，GSE200 ICP刻蚀机

1、仪器型号：GSE 200 Plus

2、制造厂商：北方微电子

3、功能说明：

本设备既可以进行细线条(纳米)加工，又可以进行体加工(深刻蚀)。具有选择比好，刻蚀速度快、重复性好等特点，比RIE有更好的综合刻蚀效果且应用范围更广。

本设备主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。

4、性能指标：

ICP离子源：0-3000W

RF射频源：0-600W

样品尺寸：基底刻蚀温度：-20℃-30℃可调

刻蚀不均匀度：≤±5%

刻蚀气体：CF4、CHF3 、SF6、O2、Ar

可刻蚀材料包括：Poly-Si, Si, SiO2

5、样品要求：

晶圆尺寸：1片、4 inch，向下兼容

6、收费标准：校内：700元/小时；校外：700元/小时

备注：30分钟为基本时间单元