反应离子刻蚀设备 RIE-10NR
1、仪器型号：RIE-10NR
2、制造厂商：莎姆克公司
3、功能说明：
用于Si、SiO2、SiC、Si3N4等材料的刻蚀。
4、性能指标：
刻蚀均匀性: ≤±5％（均匀性≤φ125mm）；
样品尺寸：4 inch3片或8inch1片/单次工艺，向下兼容（不需要贴片）；
刻蚀气体：SF6、CHF3、CF4、Ar、O2、N2。
5、样品要求：
晶圆尺寸：4 inch3片或8inch1片/单次工艺，向下兼容（不需要贴片）
6、收费标准：
校内：500元/小时；校外：500元/小时
备注：30分钟为基本时间单元
