离子束刻蚀设备（IBE）AE4

1、仪器型号：AE4

2、制造厂商：极智芯（北京）科技有限公司

3、功能说明：

用于Au、Cu、Ti、Pt、Al等各类金属薄膜及LiNbO3材料的刻蚀。

4、性能指标：

离子能量可调范围：Ei=0～1000eV；

离子束流：可调范围0~130mA，峰值≥130mA；

标准刻蚀角度：θe=0°~90°；

刻蚀均匀性：Φ130mm范围内刻蚀不均匀性≤±2%；

可加工样品尺寸：≤Φ150mm。

5、样品要求：

晶圆尺寸：可加工样品尺寸：≤Φ150mm。

6、收费标准：

校内：400元/小时；校外：400元/小时

备注：30分钟为基本时间单元