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脉冲激光溅射沉积系统PLD450

发布时间:2023-09-26阅读数:

1.仪器型号:PLD-450

2.制造厂商:沈阳科学仪器股份有限公司

3.功能说明:

可沉积Al2O3、ITO、TiN、MgO等薄膜。

4.性能指标:

靶材尺寸:Φ60mm;

靶材转速:5~20转/分;

基片尺寸:≥φ2″;

基片转速:5~20转/分;

基片与靶台间距:30~90mm可调;

极限真空度:≤6.67x10-6 Pa ;

加热温度:800℃±1℃。

晶圆尺寸:≥φ2″;

5.样品要求:

晶圆尺寸:≥φ2″

6.收费标准:

校内:600元/小时;校外:600元/小时

备注:30分钟为基本时间单元